經(jīng)過(guò)高溫素?zé)蟮奶ンw，在施釉工藝過(guò)程中，特別是施以較厚釉層時(shí)，遇到的問(wèn)題之一便是上釉難，掛不住釉或釉層厚度達(dá)不到要求等由于釉漿流動(dòng)性太好停留能力差所引起的一系列缺陷。因?yàn)?，在吸水率很小的素胎上施釉，除了要求釉漿具有較好的粘附能力和懸浮性外，還要求釉漿具有合適的流變性和很好的停留性能。即對(duì)釉漿有三點(diǎn)基本技術(shù)要求：
1、施釉時(shí)釉漿能容易、均勻地粘附在素胎上，并達(dá)到工藝上所要求的厚度。
2、施釉后釉坯上的釉漿能立即維持原狀，表面平整光滑，無(wú)掛下和滴下現(xiàn)象，即能抵抗一定的外力和內(nèi)力（如重力）而不流失。
3、在施釉操作過(guò)程中，釉漿工藝性能穩(wěn)定不變。
所以，與改善泥漿（坯料）的流變性能相反，這類(lèi)釉漿的調(diào)制工藝主要是降低流變性和增加停留能力，即對(duì)釉漿的絮凝程度作細(xì)致的調(diào)節(jié)。釉漿的停留能力實(shí)際上就是指釉漿流變性能的好壞。釉漿作為一種分散體系，它的流變性與下列因素有關(guān)；
1、液體介質(zhì)的粘度；
2、釉漿中固形物和懸浮物的濃度；
3、懸浮顆粒的大小和形狀；
4、釉子顆粒間的相互作用力。即釉漿懸浮體系的穩(wěn)定狀態(tài)或絮凝狀態(tài)。
對(duì)于一種配方確定且燒成后各項(xiàng)理化指標(biāo)合格的釉漿,其液體介質(zhì)水和外加溶液的粘度,釉漿固形物和懸浮物的濃度變化是很小的，釉漿細(xì)度控制在一定范圍內(nèi)，釉子顆粒形狀可認(rèn)為基本一定，但釉漿懸浮體系穩(wěn)定狀態(tài)則因許多因素而變化，或因前三者的微小變化而發(fā)生較大變化。由于球磨工藝要求，往往釉漿出球磨機(jī)以后或陳腐一定時(shí)間后，工藝性能不能滿(mǎn)足施釉工藝要求，需要對(duì)其物理和物理化學(xué)性能進(jìn)行調(diào)節(jié)和控制。添加少量氯化鈣、氯化銨等無(wú)機(jī)絮凝劑對(duì)增大釉子顆粒間的絮凝作用力，降低釉漿流變性，提高釉漿停留能力有明顯效果。

氯化鈣（CaCl2）是易溶于水的堿土金屬鹽類(lèi)，在水溶液中易電離成為Ca2+和Cl-。Ca2+的作用，使釉漿系統(tǒng)的基本性質(zhì)發(fā)生變化。
一、氯化鈣對(duì)釉漿基本性質(zhì)的影響
一般釉漿中生粘土添加量為3~5%，其他為瘠性原料。因此，氯化鈣的加入，立即與具有特殊結(jié)構(gòu)和性能的生粘土發(fā)生作用，從而引起釉漿性質(zhì)發(fā)生改變。
1、粘土顆粒在釉漿系統(tǒng)中的狀態(tài)
粘土加水以后，形成膠體—-懸浮體的混合體，通常稱(chēng)粘土——水系統(tǒng)。粘土的膠體化學(xué)性質(zhì)會(huì)影響釉漿系統(tǒng)的物理和物理化學(xué)性能.這是因?yàn)轭w粒的數(shù)量對(duì)流變性能的影響并不是很大，在極稀的溶液中甚至與顆粒的數(shù)目無(wú)關(guān)。由于粘土顆粒的電性質(zhì)和離子交換性質(zhì)及吸附作用，因此在制備好的釉漿中粘土一般呈膠團(tuán)結(jié)構(gòu)（如圖一）。以粘土顆粒為中心形成膠核,表面帶有電荷，這種帶帶電離子依靠靜電引力，吸引溶液中的反離子而構(gòu)成擴(kuò)散雙電層。電位離子一般是OH-，反離子可以是H+，也可以是溶液中的金屬陽(yáng)離子如K+、Na+、Ca2+、Mg2+等。溶液中所有的反離子都能發(fā)生溶劑化作用——水化作用。由于帶電膠核對(duì)極性水分子的靜電吸引，水分子按一定取向排列在膠核周?chē)?。這種定向排列作用，隨著與膠核表面距離的增加而逐漸減弱。最靠近膠核的水分子定向排列最強(qiáng)，它們構(gòu)成水分子的定向?qū)印?，厚度約為3~10個(gè)分子直徑。水化膜的水分子與粘土膠核結(jié)合牢固，以致形成一個(gè)整體，可以在介質(zhì)中隨膠核一起移動(dòng)，這種水稱(chēng)為“牢結(jié)合水”。在水化膜外面，是擴(kuò)散層水膜，它們的定向作用已經(jīng)減弱，與粘土膠核的結(jié)合力也較小，故稱(chēng)“松結(jié)合水”。在“松結(jié)合水”的外面是自由水，它們排列混亂，不受定向作用的束縛。這三種水的比例，對(duì)釉漿流變性質(zhì)有很大的影響。

2、Ca2+對(duì)粘土結(jié)構(gòu)狀態(tài)的影響
a．Ca2+對(duì)Zeta電位的影響
根據(jù)靜電學(xué)的基本原理，可以推導(dǎo)出動(dòng)電電位的公式：

式中ζ——?jiǎng)与婋娢?br /> б——表面電荷密度
d——雙電層厚度
D——介質(zhì)的介電常數(shù)
Ca2+加入到釉漿系統(tǒng)后，會(huì)進(jìn)入粘土膠團(tuán)的吸附層中。前面已經(jīng)提到，粘土膠團(tuán)的吸附層是由電位離子OH-和反離子H-等陽(yáng)離子構(gòu)成。由于Ca2+與粘土膠粒異電性，所以將中和吸附層上的電量，使雙電層的電量減少，б值降低。Ca2+還同時(shí)與擴(kuò)散層中的反離子發(fā)生交換作用，這種交換是當(dāng)量交換，進(jìn)入一個(gè)Ca2+，代出二個(gè)H+。交換結(jié)果，使雙電層變薄，d值減小。這雙重作用都能使ζ電位降低，流變性急劇下降。
b．Ca2+對(duì)結(jié)合水層的影響
剛磨出的釉漿，流動(dòng)性很好,粘度較低，停留能力差。加入少量氯化鈣溶液后，粘度變得很高。隨著氯化鈣加入量的增大，流動(dòng)性逐漸減小，當(dāng)加入量達(dá)到一定值時(shí)，流動(dòng)性趨向于零，此時(shí)停留能力為最大。這是除了ζ電位降低的原因外，釉漿中自由水減少，結(jié)合水增加也是一個(gè)重要因素。Ca2+與膠團(tuán)發(fā)生交換作用后，立即吸附大量的自由水包覆在膠團(tuán)內(nèi)成為結(jié)合水，使粘土膠團(tuán)膨大。這些膨大的膠團(tuán)成為連接釉子顆粒的橋梁，使整個(gè)釉漿系統(tǒng)形成一種比較穩(wěn)定的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。釉漿內(nèi)釉子與膠團(tuán)互相牽聯(lián),互相制約，使粘土膠團(tuán)不能自由移動(dòng)。結(jié)果粘度大大增高，流動(dòng)性急劇降低。
3、粘土結(jié)構(gòu)狀態(tài)變化對(duì)釉漿性質(zhì)的影響
釉漿懸浮體經(jīng)過(guò)一般時(shí)間就會(huì)沉降，分層，形成密實(shí)沉積（如圖二）。加入Ca2+后，使粘土膠團(tuán)結(jié)構(gòu)狀態(tài)發(fā)生了變化，也使整個(gè)釉漿系統(tǒng)成為一粘稠的絮凝狀懸浮體。如果固體物質(zhì)濃度較低，靜置時(shí)間不長(zhǎng)，CaCl2加入量又不大時(shí)，則會(huì)產(chǎn)生蓬松狀沉積（如圖三）。很明顯，加CaCl2的釉漿比未加CaCl2的釉漿的分散程度和穩(wěn)定性能得到提高，釉漿內(nèi)部粒子分布也更加均勻，釉漿的Zeta電位降低。因而釉漿的流動(dòng)性減小，停留能力增大。

二、氯化鈣的加入量及工藝要求
氯化鈣在釉漿中的加入量隨釉漿濃度、釉漿中生粘土含量、粘土礦物類(lèi)型、素胎吸水率、要求施釉層厚度和操作溫度等因素而異，而且還因釉漿中其他添加劑的不同而異，因此難以訂出一個(gè)統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。一般根據(jù)施釉工藝對(duì)釉漿性能的要求而逐漸加入，待釉漿達(dá)到合格性能時(shí)，取得經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)。CaCl2要以溶液形式加入，如果釉將中不允許加入較多水分，則需要將CaCl2在較高溫度的水中溶解，以增大溶質(zhì)量而減少溶劑。
由于加入時(shí)不均勻，會(huì)在釉漿中形成許多大小不等的疙瘩，影響釉漿性能。因此，要一邊加氯化鈣溶液一邊攪拌，并要過(guò)80目或120目的篩后才能施釉。這樣既能去掉釉漿中的疙瘩，又能使釉漿更加均勻。
總之，氯化鈣作為一種性質(zhì)穩(wěn)定、價(jià)格低廉的無(wú)機(jī)絮凝劑，應(yīng)用于二次燒成的釉漿中，對(duì)于改善釉漿施釉性能，穩(wěn)定釉漿性質(zhì)，特別是降低釉漿流變性，增大釉漿停留能力效果顯著，從而達(dá)到提高施釉工作效率、提高釉坯質(zhì)量的目的。由于添加量很小，因此對(duì)于燒成和燒成后釉面質(zhì)量幾乎沒(méi)有影響。對(duì)于在素胎上進(jìn)行裝飾的顏料和色釉，用CaCl2溶液來(lái)調(diào)節(jié)工藝性能同樣適應(yīng)。
除了CaCl2以外，NH4Cl、AlCl3等都可以作為絮凝劑使用。如果釉漿工藝性能要求不太高時(shí)，可以用NH4Cl代替CaCl2。陽(yáng)離子的絮凝能力依下列次序而逐漸減小。
Al3+>Ca2+>CS+>Rb+>NH4+>K+>Na+>Li+，具體可根據(jù)釉漿性能和施釉工藝性能的要求，試驗(yàn)選用合適的絮凝劑，也可以選用高分子絮凝劑。